Study of the growth of ultrathin LiF films on Ag(100)

Lo scopo del presente lavoro è stato lo studio sperimentale della crescita di film ultrasottili di fluoruro di litio, depositati sulla superficie (100) dell'argento monocristallino a temperatura ambiente, usando una serie di tecniche, tra cui la spettroscopia di assorbimento di raggi X mediante radiazione di sincrotrone. La deposizione di film di diverso spessore è stata ottenuta tramite sublimazione della polvere di fluoruro di litio da una cella di effusione in una camera a ultra-alto vuoto. Le superfici dei campioni sono state studiate con un microscopio a effetto tunnel, mentre la struttura e la simmetria della superficie è stata studiata con l'analisi dei pattern di diffrazione di elettroni a basse energie. La struttura locale del fluoro è stata determinata mediante spettri di struttura fine di assorbimento dei raggi X dei campioni depositati e confrontata con quella dei campioni di riferimento. Il dicroismo lineare rilevato da raggi X linearmente polarizzati è stato usato per studiare l'asimmetria della struttura locale del fluoro dei campioni. I risultati hanno mostrato che sulla superficie (100) del substrato di argento avviene una crescita anisotropa del fluoruro di litio, con la formazione di isole di forma dendritica lungo direzioni preferenziali della superficie del substrato. Una progressiva e inomogenea crescita verticale delle isole è stata rilevata all'aumentare della quantità di materiale depositato. La struttura locale del fluoro dei campioni è stata osservata essere virtualmente identica a quella del volume, con una lieve deformazione originata dal disaccordo reticolare all'interfaccia tra film e substrato e/o il rilassamento della struttura reticolare alla superficie, che ha causato una lieve distorsione del reticolo cubico dei campioni.