Effetto dell'eposizione prolungata ad alta temperatura sul comportamento tribologico di ghise sferoidali

De Ingeniis, Valeria (2019) Effetto dell'eposizione prolungata ad alta temperatura sul comportamento tribologico di ghise sferoidali. [Laurea magistrale], Università di Bologna, Corso di Studio in Ingegneria energetica [LM-DM270], Documento full-text non disponibile
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Abstract

L’attività di tesi ha riguardato lo studio del comportamento tribologico di tre ghise sferoidali con diversa matrice, prima e dopo degrado a 500 °C per 240 h; sono state prese in esame una ghisa perlitica (GSP), una perferritica (IDI) e una ausferritica (ADI). Le prove sono state eseguite sia a temperatura ambiente che a 500°C, secondo ASTM-G99, utilizzando un pin on disk in assenza di lubrificazione, sfere di 100Cr6 per le prove a temperatura ambiente e di allumina per le prove a 500 °C. Sono stati poi determinati il valore medio del coefficiente d’attrito (CA) e del volume di usura (VU). Le piste di usura sono state infine analizzate con microscopio ottico ed elettronico a scansione. I risultati hanno mostrato che a temperatura ambiente la ADI non degradata non subisce usura, e il CA è inferiore a 0,6. Il degrado ha indotto delle modifiche microstrutturali che hanno peggiorato il comportamento tribologico, e il VU della degradata risulta essere il più alto fra quelli delle ghise studiate, mentre il CA è confrontabile con quello delle altre ghise. Le IDI e le GSP presentano una diminuzione di CA e VU dopo il degrado, accentuata per la ghisa IDI, dovuta alla diversa morfologia della perlite degradata che ha favorito un’usura tribossidativa, moderata. Nelle prove a 500°C, invece, il comportamento delle varie ghise (degradate e non) è molto simile. I valori ottenuti del CA e dei VU per le GSP e ADI sono del tutto confrontabili; le IDI, mostrano invece valori leggermente maggiori del CA, ma un minore VU. Per quanto riguarda il minor CA delle ghise GSP e ADI rispetto alle IDI questo è imputabile alla formazione di uno strato di trasferimento sulla sfera in allumina, che riduce la resistenza allo strisciamento, mentre per quanto riguarda il VU il diverso comportamento delle ghise è legato ai diversi meccanismi che si instaurano; tribossidativo nelle IDI, tribossidativo e adesivo con fenomeni di stick slip, per le ADI e GSP.

Abstract
Tipologia del documento
Tesi di laurea (Laurea magistrale)
Autore della tesi
De Ingeniis, Valeria
Relatore della tesi
Correlatore della tesi
Scuola
Corso di studio
Ordinamento Cds
DM270
Parole chiave
ghise sferoidali,attrito,usura,pin on disk,degrado termico,alta temperatura
Data di discussione della Tesi
15 Marzo 2019
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